微型真空甩帶爐介紹主要由加熱室、真空系統、控制系統三部分組成。其中，加熱室通常采用電阻式或電感式加熱方式，通過高溫爐芯將加熱管與加熱室隔離，從而實現加熱室內的恒定高溫。真空系統則包括真空泵、真空計、閥門等組件，可以實現對加熱室內的真空度進行精確控制。控制系統則負責監測和調節加熱室內的溫度、真空度等參數，以保證熱處理過程的穩定性和可靠性。
在使用微型真空甩帶爐進行工藝處理時，需要先將待處理材料放置在石英舟或陶瓷舟中，然后將舟載入加熱室內。接下來，打開真空系統，將加熱室內的氣體抽出，直到達到所需的真空度。最后，啟動加熱系統，將加熱室內的溫度升至所需的高溫，并在一定時間內進行保溫處理。完成處理后，關閉加熱系統，等待加熱室冷卻后再打開真空系統，取出處理好的材料。
真空甩帶爐主要應用于薄膜的制備、熱解和燒結等領域。例如，在光電子器件制備中，常用真空甩帶爐對金屬和半導體材料進行熱處理，以改善材料的電學性能和光學特性。在高分子材料領域，真空甩帶爐則可以用于烘干、熱解和燒結等工藝，以提高材料的密度和穩定性。
微型真空甩帶爐介紹特點
1·爐體全不銹鋼設計，外形美觀大方，不生銹。
2·采用立式側部開門結構，結構新穎，裝卸料方便，操作直觀。
3 .配置大口徑觀察窗，可實時觀察爐內的冶煉情況
3·冶煉溫度高，溫度可1700度以上，
4·采用專用IGBT高頻電源，，熔煉效果好。
5·采用兩級控制系統真空度高，可達5.0*10-3pa
6配有操作模擬屏，操作直觀簡潔
參數配置
1. 甩帶系統采用伺服電機控制，克服普通變頻電機抖動，電機轉速不穩的難題。
擴展性強，可增加噴鑄澆鑄功能
1.設備總功率：10Kw；
2.電源電壓：單相220V,50Hz
3.真空度：10Pa 5×10E-3Pa 6.7×10E-4Pa可選
4.設備容量：5-20g 感應熔煉容量50-200g
5.熔煉溫度0-1700 加石墨坩堝可達2100度以上
6·坩堝配置：石英坩堝 BN坩堝 石墨坩堝
7.真空泵組：飛越機械泵 機械泵+擴散泵 機械泵+分子泵 配置
8.甩帶銅滾尺寸：φ220mmx40(不帶水冷)
9.甩帶寬度： 1mm 6mm 10mm
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